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失效分析的一般程序

失效分析的一般程序

1、收集现场场数据

2、电测并确定失效模式

电测失效可分为连接性失效、电参数失效和功能失效。

连接性失效包括开路、短路以及电阻值变化。这类失效容易测试,现场失效多数由静电放电(ESD)和过电应力(EOS)引起。

电参数失效,需进行较复杂的测量,主要表现形式有参数值超出规定范围(超差)和参数不稳定。

确认功能失效,需对元器件输入一个已知的激励信号,测量输出结果。如测得输出状态与预计状态相同,则元器件功能正常,否则为失效,功能测试主要用于集成电路。

三种失效有一定的相关性,即一种失效可能引起其它种类的失效。功能失效和电参数失效的根源时常可归结于连接性失效。在缺乏复杂功能测试设备和测试程序的情况下,有可能用简单的连接性测试和参数测试方法进行电测,结合物理失效分析技术的应用仍然可获得令人满意的失效分析结果。

3、非破坏检查

X-Ray检测,即为在不破坏芯片情况下,利用X射线透视元器件(多方向及角度可选),检测元器件的封装情况,如气泡、邦定线异常,晶粒尺寸,支架方向等。

适用情境:检查邦定有无异常、封装有无缺陷、确认晶粒尺寸及layout

优势:工期短,直观易分析

劣势:获得信息有限

局限性:

1、相同批次的器件,不同封装生产线的器件内部形状略微不同;

2、内部线路损伤或缺陷很难检查出来,必须通过功能测试及其他试验获得。

4、打开封装

开封方法有机械方法和化学方法两种,按封装材料来分类,微电子器件的封装种类包括玻璃封装(二极管)、金属壳封装、陶瓷封装、塑料封装等。

机械开封

化学开封

5、显微形貌像技术

光学显微镜分析技术

扫描电子显微镜的二次电子像技术

电压效应的失效定位技术

6、半导体主要失效机理分析

正常芯片电压衬度像 失效芯片电压衬度像 电压衬度差像

电应力(EOD)损伤

静电放电(ESD)损伤

封装失效

引线键合失效

芯片粘接不良

金属半导体接触退化

钠离子沾污失效

氧化层针孔失效

上述就是为您介绍的有关失效分析的一般程序的内容,对此您还有什么不了解的,欢迎前来咨询我们网站,我们会有专业的人士为您讲解。



关键词:  失效分析  第三方认证机构  连接器测试  PSE认证  电缆检测  盐雾测试

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